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特點(diǎn)

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  設(shè)備參數(shù)
  - 使用激光和高速掃描儀進(jìn)行圖案制作
  - 采用1064nm皮秒激光 
  
  
  
  
  
  
  				

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  硬件
  - 與傳統(tǒng)的圖案化工藝（例如蝕刻和印刷）相比，工藝非常簡(jiǎn)單。
  - 由于可以進(jìn)行選擇性構(gòu)圖，因此無(wú)需去除保護(hù)膜。
  - 在卷對(duì)卷和片材工藝中均可使用。
  - 不使用化學(xué)品的環(huán)保工藝。
  - 通過(guò)使用高速激光和掃描儀縮短圖案形成時(shí)間。
  - 銀納米線圖案前后的霧度和透明度幾乎沒(méi)有變化。
  - 不需要遮罩，因此只需更改程序即可產(chǎn)生各種圖案 。